一、条例的地位与沿革
《集成电路布图设计保护条例》（以下简称条例）是我国保护集成电路布图设计专有权的专门行政法规，是芯片设计企业核心资产——"芯片微观蓝图"的法律护城河。其沿革分为两个阶段：
其一，2001年4月2日，国务院令第300号公布条例，自2001年10月1日起施行，共六章三十六条。条例是2001年前后中国为加入世界贸易组织而集中完成的知识产权配套立法之一，其制度模板直接来自TRIPs协定第三十五至第三十八条：TRIPs要求全体成员按照1989年《关于集成电路的知识产权条约》（华盛顿条约）实体条款保护布图设计，允许以登记作为保护条件（中国采登记产生制），保护期不得少于自登记申请日或首次商业利用起十年，善意侵权人有义务在收到通知后就存货支付合理使用费。条例对上述国际义务的国内法化相当忠实：登记产生专有权（第八条）、保护期十年加自创作完成起十五年上限（第十二条）、善意商业利用不视为侵权（第三十三条）、非自愿许可限于公共利益与竞争救济（第二十五条）等，均可在TRIPs中找到直接对应。
其二，2026年7月23日，国务院令第842号修订条例，自2026年10月15日起施行，共六章五十四条。此次修订距初次施行已逾二十五年，修订背景有三层：一是技术背景——集成电路制造工艺进入深纳米时代，集成光子、量子等新型集成电路功能形态涌现，2001年版以"半导体集成电路"为基底的保护框架需要扩展；二是产业背景——美国对华芯片出口管制持续加码，集成电路产业链、供应链安全上升为国家战略命题，条例需要为自主芯片设计提供更有力的制度支撑（新增对等反制条款即为此）；三是制度背景——2018年以来专利法、著作权法、商标法先后完成修正，惩罚性赔偿（一至五倍）、诚实信用原则、专利代理机构管理（《专利代理条例》2019年修订）等制度均已升级，布图设计条例的赔偿责任、登记程序和代理管理需要与之对齐。新华社通稿将修订内容概括为四个方面：明确总体要求（贯彻党和国家知识产权战略部署、扩展保护范围、强调诚实信用）、完善申请审查程序（规制虚假申请、细化材料要求、完善驳回撤销程序、增加权利恢复程序）、加强专有权保护（明确权利范围界定标准、加大侵权赔偿力度）、促进布图设计运用（加强公共服务、明确奖酬措施、完善转让许可出质要求、规范共有人权利行使）。
二、条例与相邻法律制度的边界
布图设计保护采专门立法模式（sui generis），既不同于专利法"公开换保护"的制度设计——布图设计登记的目的在于确定保护对象而非公开设计内容（指导案例218号裁判要点一），也不同于著作权法对作品的自愿登记——布图设计登记是权利产生要件，未经登记不受保护。实践中三种保护路径的界分：布图设计作为技术方案可另行寻求专利权保护（发明专利），设计中的未公开信息可依《反不正当竞争法》作为商业秘密保护，版图表达在满足独创性条件下可讨论著作权保护；但条例的专门保护独立于上述路径，其权利内容（复制权与商业利用权）和十年保护期具有自身逻辑。
三、适用本条例的三个基本提示
一是版本衔接。2001年版施行期间（2001年10月1日至2026年10月14日）发生的登记、侵权与行政处理行为，程序与实体均适用当时有效的2001年版；2026年10月15日起的登记申请、行政处理与诉讼适用修订版。本文以2026年修订版条文为主体逐条解读，并逐条标注与2001年版的对照。
二是执法主体。条例所称"国务院知识产权行政部门"为国家知识产权局，其负责布图设计登记、专有权管理及行政处理（责令停止侵权、没收销毁侵权产品）；地方知识产权管理部门依法协助开展相关工作。布图设计纠纷的行政处理与专利纠纷的行政处理在程序构造上高度相似（均采"认定侵权—责令停止—没收销毁—赔偿调解"结构），可参照专利行政保护的程序经验。
三是证据特点。布图设计侵权案件中，芯片剖片（去层扫描还原三维配置）、复制件或图样比对、独创性声明解释构成证据体系的核心，与一般著作权案件的"接触＋实质性相似"规则相比，布图设计案件更强调以登记文件确定保护范围、以独创性声明固定权利主张。
第一条 为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术创新，促进科学技术发展，制定本条例。
本条是关于条例立法目的的规定。
本条与2001年版第一条仅有一字之差（"鼓励集成电路技术的创新"简化为"鼓励集成电路技术创新"），立法目的结构未变，三层递进：保护专有权（权利本位）、鼓励创新（产业导向）、促进科技发展（公共福祉）。
值得注意的是条例立法目的未像商标法、专利法那样写入"维护公平竞争秩序"或"促进社会主义现代化建设"表述，而是聚焦技术维度的激励——这与布图设计保护制度在国际法上的纯粹技术保护定位一致（TRIPs第三十五条援引华盛顿条约时即围绕技术实施展开）。
行政处理与司法裁判中，凡涉及权利滥用、恶意诉讼抗辩的，应回到本条与第九条的立法目的条款进行体系解释：条例保护的是真实创新的专有权，而非登记工具化的"纸面权利"。
第二条 集成电路布图设计保护工作应当贯彻党和国家知识产权战略部署，提升我国集成电路布图设计创造、运用、保护、管理和服务水平。
本条是关于布图设计保护工作总体要求的规定（2026年新增）。
本条是2026年修订"明确总体要求"的纲领条款，将党和国家知识产权战略部署写入行政法规总则，与专利法、著作权法等法律近年增补的"贯彻新发展理念""提升知识产权创造、运用、保护、管理和服务水平"表述同频（参见《知识产权强国建设纲要（2021—2035年）》确立的"创造、运用、保护、管理、服务"全链条要求）。
"创造、运用、保护、管理和服务"五个环节的表述，将行政机关的职责从单纯的登记审查扩展为全链条服务，为第十条（公共服务）、第十六条（职务奖酬）等新增条款提供了总纲依据。
本条为倡导性总纲条款，不直接设定权利和义务，但可作为行政处理中解释其他条款价值取向的指引——例如对涉案芯片是否属于"国家关键领域核心芯片"而影响非自愿许可（第三十九条）裁量的政策考量。
第三条 本条例下列用语的含义：
（一）集成电路，是指以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；
（二）集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置；
（三）布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者非法人组织；
（四）复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；
（五）商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。
对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护。
本条是关于集成电路、布图设计及专有权相关用语定义的规定。
五个定义承袭2001年版第二条，源自华盛顿条约第二条和TRIPs第三十五条的援引文本，其中三处变化值得注意：其一，第
（三）项权利主体由"自然人、法人或者其他组织"改为"自然人、法人或者非法人组织"，与《民法典》民事主体体系（非法人组织包括个人独资企业、合伙企业、不具有法人资格的专业服务机构等）对齐；
其二，第
（四）
（五）项定义中的"受保护的布图设计"表述使复制、商业利用的行为对象明确限定于受保护客体，与第十一条、第四十四条的权利内容表述形成闭环；
其三，第二款新增"对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护"——这是2026年修订扩展保护范围的关键条款，将2001年版"半导体集成电路"的功能外延扩展到光子集成电路（硅光芯片）、量子芯片等新型功能形态。
"集成光子、量子等功能的集成电路"的措辞刻意避免将载体限定为半导体材料，为技术演进预留空间，同时"可以依照本条例的规定予以保护"保留了个案判断的弹性。
"有源元件"（晶体管、二极管等）的限定排除了纯无源结构（仅由电阻电容构成的简单布局）；
"三维配置"揭示了布图设计保护的客体本质——元件与互连线路在基片内的空间三维关系，而非功能层次上的逻辑设计；
"为制造集成电路而准备的上述三维配置"将保护延伸至制造环节的准备形态（掩模版、流片用图）。
第二款的保护范围扩展对登记实务的影响：光子集成、量子集成布图设计可依本条申请登记，其复制件、图样的呈现方式（非传统光刻版图）需要登记细则的配套调整。
办案中界定布图设计客体时，应把握"三维配置＋有源元件＋电子功能"三要素；
对仅涉及电路逻辑功能（功能层次）的主张，因不含元件与线路的三维配置，不给予布图设计专有权保护（指导案例218号裁判理由二的观点：功能层次上不保护，元件分配、布置、互联、信息流向、组合效果层面才保护）。
第四条 中国自然人、法人或者非法人组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
外国人、外国企业或者外国其他组织创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。
外国人、外国企业或者外国其他组织创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。
本条是关于布图设计专有权主体和国民待遇的规定。
本条与2001年版第三条基本一致，主体表述同步扩展为"非法人组织""外国企业或者外国其他组织"。
三款结构：第一款本国主体自动保护；
第二款首次在中国商业利用的外国主体保护（发行地主义变体——商业利用地主义）；
第三款条约/协议互惠保护（创作者所属国与中国有协议或共同参加国际条约）。
注意第三款与专利法、商标法的"国民待遇＋互惠"结构类似，但布图设计领域中国参加的国际条约主要是TRIPs（WTO框架）——TRIPs成员的国民在WTO框架下均享有保护，故第三款在实践中主要通过TRIPs成员资格落地。
涉外布图设计投诉中核实主体资格：外国权利人应提交权利来源证明（登记证书、转让证明）及主体资格证明；
依第二款主张的，应证明"首先在中国境内投入商业利用"的事实（首次销售、进口投放的时间与地点证据）。
第五条 申请布图设计登记或者办理其他布图设计事务，可以自行办理，也可以委托依法设立的专利代理机构办理。
在中国没有经常居所或者营业所的外国人、外国企业或者外国其他组织在中国申请布图设计登记和办理其他布图设计事务的，应当委托依法设立的专利代理机构办理。
专利代理机构应当遵守法律、行政法规，按照被代理人的委托办理布图设计登记申请或者其他布图设计事务；对被代理人布图设计中未公开的内容，负有保密责任。
本条是关于登记申请代理制度和代理机构保密义务的规定（2026年新增）。
2001年版未规定代理制度（实践中参照专利代理规则操作），2026年修订将其明文化，并配套第四十八条的罚则。
制度设计直接对接《专利代理条例》（2019年修订）：布图设计登记事务纳入专利代理机构业务范围，境外主体（无经常居所或营业所）强制委托；
代理机构保密义务的明确，与布图设计"登记不公开设计内容"的特殊性（见指导案例218号）密切相关——代理机构经手复制件、图样、电子版本等核心秘密材料，泄密将直接摧毁权利人的保护基础。
代理机构泄露未公开内容的，依第四十八条转致《专利代理条例》第二十五条处罚（警告、罚款、吊销执业许可证等）；
办案中涉及代理机构配合调查的，注意其保密义务与案件证据调取之间的平衡，调取电子版本材料应限定用途。
第六条 受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。
受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。
本条是关于布图设计独创性条件的规定。
本条与2001年版第四条完全一致，其独创性定义与著作权法上的独创性（独立创作＋最低限度创造性）相近但具有布图设计特色：一是"自己的智力劳动成果"对应独立创作要件；
二是"在其创作时……不是公认的常规设计"对应相对新颖性要件——判断时点是创作时而非申请时，参照主体是布图设计创作者和集成电路制造者（本领域技术人员式的行业标准），"公认的常规设计"类似专利法上的公知常识。
第二款解决常规设计的组合问题：单个元件布局均为常规，但组合整体具有独创性的，整体受保护——这是布图设计领域特有的"组合独创性"规则，源于华盛顿条约第二条第二款。
独创性是布图设计保护的灵魂条款。
指导案例218号（苏州赛某诉深圳裕某案，最高人民法院（2019）最高法知民终490号）对独创性判断作了系统阐发：登记不当然意味着登记的布图设计内容具有独创性，权利人仍应就其主张的独创性作出合理解释或者说明，被诉侵权人不能提供充分反证推翻的，可以认定具备独创性；
对权利人就"独创性部分"的主张，判断对象是权利人指明部分含有的元件和线路的具体三维配置，判断分两个层面——先看是否属于执行电子功能的三维配置，再看该配置在创作时是否非公认常规设计；
受保护的独创性部分应能相对独立地执行某种电子功能，且不论其在整体设计中是否占据主要部分。
举证责任分配上，不能要求权利人穷尽一切手段证明独创性，被诉侵权人只要提供一份已公开的常规布图设计即可推翻——这一"权利人初步说明＋被诉人反证"的结构，与该案确立的登记与独创性分离规则，共同构成布图设计诉讼的举证框架。
人民法院案例库收录的某科技（上海）股份有限公司诉深圳市某科技有限公司案（ATT7021AU布图设计案）进一步明确：受保护布图设计的任何独创性部分均受法律保护，经鉴定确认被控芯片与原设计两处独创点构成实质性相似的，构成侵权，判赔320万元。
行政处理中认定侵权同样绕不开独创性审查：权利人应提交独创性声明（2026年版第二十四条已将其列为登记必备材料）并具体说明独创性的设计区域、要点与功能；
被请求人主张涉案布图设计为常规设计的，应提供行业常规设计文献或同类公开布图设计反证。
第七条 本条例对布图设计的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。
本条是关于保护范围排除（思想与表达二分法的布图设计版）的规定。
本条与2001年版第五条一致，与TRIPs第九条第二款（版权保护不延及思想、程序、操作方法、数学概念）、《计算机软件保护条例》（国务院令第632号，2013年）第六条同源。
布图设计领域思想与表达二分法的具体化：电路功能、算法逻辑、设计思路属于思想层面不受保护；
元件与互连线路的三维配置（体现为版图的具体布局）才是表达层面受保护。
指导案例218号据此区分了布图设计的功能层次与配置层次——功能层次（不含元件和线路三维配置的逻辑设计）不保护，配置层次（元件分配、布置、互联、信息流向、组合效果）保护。
被告以"功能相同不侵权"抗辩的，应对比双方版图的三维配置而非功能说明书；
功能相似而版图布局明显不同的，不构成布图设计侵权。
第八条 国务院知识产权行政部门负责全国的布图设计专有权有关管理工作。
本条是关于管理机关的规定。
与2001年版第六条相比增加了"全国"限定，明确国家知识产权局对布图设计专有权的统一管理职责（登记、行政处理、非自愿许可、撤销等均由该部门行使）。
这与专利、商标行政管理体制的差异值得注意：布图设计管理权高度集中于中央机关，地方知识产权部门无登记与撤销权限，主要承担协助执法、纠纷调解职能。
地方市场监管（知识产权）部门收到布图设计侵权投诉的，应告知权利人向国家知识产权局请求行政处理或向人民法院起诉；
地方部门可依职责开展调解和协助调查取证。
第九条 申请布图设计登记和行使布图设计专有权应当遵循诚实信用原则。不得滥用布图设计专有权损害国家利益、社会公共利益或者他人合法权益。
滥用布图设计专有权，排除或者限制竞争，构成垄断行为的，依照《中华人民共和国反垄断法》处理。
本条是关于诚实信用原则和禁止权利滥用的规定（2026年新增）。
本条是2026年修订"强调诚实信用"的落点条款，与《专利法》第二十条（申请专利和行使专利权应当遵循诚实信用原则，不得滥用专利权损害公共利益或他人合法权益）、商标法第七条、第四款的反垄断衔接形成知识产权领域的诚实信用原则体系。
第一款的规制对象覆盖登记与行使两端：登记端的"非真实创作申请"（对应第二十条）、行使端的"权利滥用"（恶意诉讼、滥用行政处理程序、以登记威胁竞争对手）。
第二款将滥用布图设计专有权排除限制竞争的行为接入《反垄断法》——与2022年修正后的《反垄断法》第六十八条（经营者滥用知识产权排除、限制竞争行为的处理）衔接，同时为第三十九条非自愿许可中的"反垄断补救"提供了实体法依据。
此前的2001年版第二十五条、第二十六条以"不正当竞争行为监督检查部门依法认定有不正当竞争行为"为表述，2026年修订改为"人民法院、反垄断执法机构依法认定有垄断行为"，将布图设计领域的竞争救济从《反不正当竞争法》框架切换至《反垄断法》框架，更为精准。
行政处理中应对"登记囤积—滥诉维权"的异化现象保持警觉：权利人以明显不具独创性的登记主张权利、或以布图设计专有权为工具打击竞争对手的，可依本条不予支持并移送反垄断执法线索；
诚实信用原则也是行政处理程序中对虚假陈述申请人追究责任的依据。
第十条 国务院知识产权行政部门应当会同有关部门采取措施，加强布图设计公共服务，促进布图设计运用。
本条是关于布图设计公共服务的规定（2026年新增）。
本条将"加强公共服务、促进布图设计运用"确立为行政机关的法定义务，与第二条的"运用、保护、管理、服务"全链条要求呼应。
实践中体现为国家知识产权局及地方知识产权保护中心提供的布图设计登记咨询、集成电路知识产权快速协同保护（快速预审、快速维权）、专利导航等服务。
该条为倡导性授权条款，但为地方知识产权保护中心开展布图设计相关服务提供了直接依据。
第十一条 布图设计权利人享有下列专有权：
（一）对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制；
（二）将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。
本条是关于布图设计专有权内容的规定。
本条与2001年版第七条完全一致，权利内容仅两项：复制权与商业利用权。
这是布图设计专门保护与著作权、专利权的核心区别——没有发行权、出租权、改编权等权项拆分，商业利用权一项统摄进口、销售及其他提供行为（见第三条第五项定义）。
"全部或者其中任何具有独创性的部分"的限定表明复制权的保护对象包括部分独创性区域（指导案例218号：任何具有独创性的部分均受保护，不论是否主要部分）；
商业利用权的对象延及"含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品"——即芯片成品乃至内置该芯片的终端产品，这一"层层递进"的商业利用控制是TRIPs第三十六条的国内法化，也是实践中"芯片销售商、终端组装商"均可能落入侵权链条的原因。
定性时区分行为类型：光罩制作、晶圆代工中的重复制作属复制；
芯片销售、进口、整机搭载销售属商业利用。
对仅实施商业利用而不复制的行为人（如不知情购入侵权芯片的组装商），其责任适用第四十七条的善意规则，与直接复制者区别处理。
第十二条 布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。
未经登记的布图设计不受本条例保护。
本条是关于布图设计专有权登记产生原则的规定。
登记产生制是条例与著作权自动保护、专利审查授权之外的第三种权利产生模式。
TRIPs第三十五条援引华盛顿条约时允许成员以登记为保护条件（华盛顿条约第七条第二款允许以登记作为获得保护的前提），中国立法时选择了严格的登记产生制。
立法时的争议在于：登记产生制是否过于严苛？
美国1984年《半导体芯片保护法》采登记制但给予首次商业利用后二年内的宽限期；
TRIPs框架下华盛顿条约亦要求"商业实施后两年内申请登记"（对应条例第二十六条）。
最终条例采纳"登记产生＋首次商业利用后二年宽限登记"的组合，既满足TRIPs的最低要求，又为芯片产业"先流片、后登记"的现实节奏留出空间。
与著作权法、专利法的制度比较：著作权自创作完成自动产生；
专利经实质审查授权产生；
布图设计经登记（初步审查）产生——登记程序的低门槛（初步审查）使其接近"注册＋声明"模式。
未经登记的布图设计不受保护，意味着权利人必须在首次商业利用之日起二年内（第二十六条）完成登记；
登记申请日或首次商业利用日中较早者为保护期起算点（第十七条）。
指导案例218号重申：登记的目的在于确定保护对象而非公开设计内容，公开不是取得专有权的条件——这与专利"公开换保护"截然不同，登记材料中未公开的内容受保密（第三十二条、第五十条），权利人无须担心登记导致设计秘密公开。
权利人维权第一步即核对登记状态与登记证书内容；
对"未登记布图设计"的侵权指控不能支持，但可引导权利人转向商业秘密或专利权保护路径评估；
登记证书载明的申请日对保护期计算、宽限期判断具有决定性意义。
第十三条 布图设计专有权属于布图设计创作者，本条例另有规定的除外。
由法人或者非法人组织主持，依据法人或者非法人组织的意志而创作，并由法人或者非法人组织承担责任的布图设计，该法人或者非法人组织是创作者。
由自然人创作的布图设计，该自然人是创作者。
本条是关于布图设计专有权归属的规定。
与2001年版第九条相比，主体表述加入"非法人组织"，其余规则不变：创作主义归属（专有权属于创作者）＋职务创作归单位（"主持＋意志＋担责"三要件）＋自然人创作归个人。
布图设计多产生于芯片企业的研发流程中，职务创作规则（第二款）是产业常态——版图设计工程师在履行职务中完成的布图设计，专有权归企业；
第三款强调自然人独立创作情形下的个人归属。
核实权利人身份时注意职务创作要件：自然人主张个人权利的，应审查其创作是否属于职务行为（劳动合同职责范围、是否使用单位物质技术条件、是否以单位名义对外承担责任）；
单位主张权利的，备案材料、项目立项文件、研发记录是权属证据链的核心。
第十四条 两个以上自然人、法人或者非法人组织合作创作的布图设计，其专有权的归属由合作者约定；未作约定或者约定不明的，其专有权由合作者共同享有。
本条是关于合作创作布图设计权属的规定。
与2001年版第十条一致，仅扩展主体表述。
"约定优先、无约定共同共有"的规则与著作权法第十三条合作作品、专利法第八条合作发明（无约定归合作方共有）的逻辑一致。
布图设计的合作创作常见于芯片设计外包中的联合研发（Fabless企业与代工厂、IP核供应商的协同设计）。
共同共有权利人的维权程序：依第三十六条，共有权利的行使无约定时，除"单独使用或普通许可"外须全体共有人同意——单独共有人以专有权受侵害为由起诉或请求行政处理的，应审查其是否取得其他共有人同意或行使是否属"单独使用"范畴。
第十五条 受委托创作的布图设计，其专有权的归属由委托人和受托人双方约定；未作约定或者约定不明的，其专有权由受托人享有。
本条是关于委托创作布图设计权属的规定。
与2001年版第十一条一致："约定优先、无约定归受托人"——与委托作品（著作权法第十九条）的默认规则相同，而与委托发明（专利法第八条：无约定申请权归完成发明创造的受托方？
实际专利法第八条无约定申请权属于完成或者共同完成的单位或个人）方向一致。
芯片设计外包中，无约定时受托设计公司享有布图设计专有权，委托方仅获合同约定的使用权——实务中委托方常以为"出钱即为权利人"，本条是重要的风险提示。
处理委托设计纠纷时，先查合同对权属、使用范围、后续改进的约定；
无约定的，受托方为权利人，委托方在委托目的范围内享有使用权利。
第十六条 属于本条例第十三条第二款规定情形的，法人或者非法人组织应当依照《中华人民共和国促进科技成果转化法》和国家有关规定，对符合条件的人员给予合理的奖励和报酬。
本条是关于职务布图设计奖酬的规定（2026年新增）。
本条将职务布图设计的奖酬义务明确化，与《专利法》第十五条（职务发明创造的发明人奖励报酬）、第十五条之二（单位依法制定的内部规定）及《促进科技成果转化法》第四十四条（职务科技成果完成人奖励报酬）形成职务成果奖酬制度体系。
立法动因：布图设计是芯片企业核心资产，但版图设计工程师的创造性贡献在现行分配机制中常被忽视；
将布图设计纳入科技成果奖酬范围，有助于稳定研发人才队伍。
"符合条件的人员"的范围、奖励报酬的数额与支付方式，授权单位依法自主决定（参照专利法第十五条第二款、促进科技成果转化法第四十四条的"约定优先、法定兜底"结构）。
处理研发人员与企业的奖酬争议时，引导双方依据单位规章制度、劳动合同约定协商；
企业未建立内部奖酬制度的，可参照职务发明奖酬的司法实践（如专利法实施细则规定的法定最低标准）把握合理性。
第十七条 布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。
本条是关于布图设计专有权保护期的规定。
本条与2001年版第十二条完全一致。
保护期结构完全对应TRIPs第三十八条：十年保护期（自登记申请日或首次商业利用日起算，以较早者为准）加十五年绝对上限（自创作完成之日起算）。
十年期限显著短于专利（二十年）与著作权（终生加五十年），体现了布图设计领域技术更新快、商业生命周期短（芯片产品通常三至五年换代）的产业特性。
两个起算点（登记申请日与首次商业利用日）中较早者的设计，防止权利人利用登记时机拖延保护期起算；
"在世界任何地方首次投入商业利用"（而非限于中国）与第二十六条的二年登记宽限期联动——在境外先投放市场后超过二年才在国内申请登记的，丧失登记资格与保护。
办案时计算保护期注意三点：一是保护期起算取登记申请日与首次商业利用日之早者；
二是创作完成满十五年绝对终止（即使从未登记或利用）；
三是被诉侵权产品的时间点落入保护期内的，才构成侵权。
对接近保护期届满的布图设计，行政处理与诉讼中应主动审查时效。
第十八条 布图设计专有权属于自然人的，该自然人死亡后，其专有权在本条例规定的保护期内依法转移。
布图设计专有权属于法人或者非法人组织的，法人或者非法人组织变更、终止后，其专有权在本条例规定的保护期内由承继其权利、义务的法人或者非法人组织享有；没有承继其权利、义务的法人或者非法人组织的，不再受本条例保护。
本条是关于布图设计专有权转移的规定。
与2001年版第十三条相比，第二款的表述由"该布图设计进入公有领域"改为"不再受本条例保护"（法律效果相同，表述更中性），并删去"依照继承法的规定转移"中的法律名称指向（避免民法典施行后援引失效法律的尴尬，转移规则适用《民法典》继承编）。
自然人死亡后专有权依法转移（依继承），法人变更终止后由权利义务承继人享有，无承继人的权利消灭。
合并、分立、破产中的布图设计资产核查：承继人应提交变更登记、合并协议等证据；
无承继人时权利终止，第三人对该布图设计的复制与商业利用不再构成侵权。
第十九条 国务院知识产权行政部门负责布图设计登记工作，受理布图设计登记申请。
本条是关于登记机关的规定。
与2001年版第十四条一致。
国家知识产权局（及其指定机构）统一受理全国布图设计登记申请，登记程序细则见《集成电路布图设计保护条例实施细则》（国家知识产权局令第11号，2001年发布施行，2023年修改）。
登记是权利产生、保护期起算、保护范围确定的枢纽程序，集中登记体制保证了标准的统一。
第二十条 提出布图设计登记申请应当以真实创作活动为基础，不得弄虚作假。
本条是关于登记申请真实性的规定（2026年新增）。
本条是2026年修订"规制虚假申请"的落点条款，与第九条诚实信用原则呼应。
实践中曾出现以他人布图设计冒充自己创作申请登记、编造不存在的"设计"登记囤积等行为——登记的初步审查不进行实质新颖性检索，虚假申请有机可乘。
本条为登记程序的真实性审查（第二十七条初步审查中的明显不符合情形之一）和撤销程序（第三十条）提供依据：弄虚作假的申请可被驳回或撤销，专有权视为自始不存在（第三十一条）。
处理权属争议型案件时，对登记内容与真实创作不符的（如登记人从未参与设计、登记图样与真实版图不符），可建议利害关系人依第三十条请求撤销登记，再行主张权利。
第二十一条 申请登记的布图设计涉及国家安全或者重大利益，需要保密的，按照国家有关规定办理。
本条是关于保密布图设计登记的规定。
与2001年版第十五条一致，对应专利法第四条（涉及国家安全或重大利益的发明创造需要保密的按照国家有关规定办理）和专利法实施细则的保密审查规则。
涉及国防、关键基础设施等领域的芯片布图设计，登记程序按保密规定办理，防止设计内容外泄。
第二十二条 申请布图设计登记，应当提交：
（一）布图设计登记申请表；
（二）布图设计的复制件或者图样；
（三）布图设计的独创性声明；
（四）国务院知识产权行政部门规定的其他材料。
布图设计已投入商业利用的，申请布图设计登记应当提交含有该布图设计的集成电路样品。
本条是关于登记申请材料的规定。
与2001年版第十六条相比，最大的变化是第
（三）项将"独创性声明"从"其他材料"中独立出来并设为必备项，同时将原第
（三）项（已商业利用的提交集成电路样品）调整为第二款并保留。
独创性声明升级为法定必备材料的制度动因在于：其一，登记审查与后续侵权诉讼都需要明确"权利人主张的独创性在哪里"——指导案例218号确立的"权利人应就其主张的独创性作出合理解释或说明"规则，需要以登记时的独创性声明为起点；
其二，第二十四条进一步规定独创性声明的具体内容（设计区域、设计要点、相应功能），使独创性主张在登记时即被固定，防止诉讼中随意扩大主张范围。
权利人维权时，登记文件中的独创性声明是划定保护范围的"锚点"：诉讼与行政处理中主张的独创性部分原则上不能超出登记声明所指明的区域与要点；
未作整体独创性声明的，难以事后主张整体保护。
第二十三条 申请人提交的复制件或者图样应当包含布图设计的必要信息，能够清楚地显示该布图设计具有独创性的部分。
本条是关于复制件或图样内容要求的规定（2026年新增）。
复制件或图样（放大至规定倍数）是确定保护范围的基础文件（第三十四条），本条要求其"能够清楚地显示具有独创性的部分"——复制件或图样的质量直接决定保护范围的可识别性。
实践中存在申请人提交模糊、不完整图样以"藏一手"的做法，本条与第二十四条、第三十四条组合，实质上要求权利人登记时提交足以支撑权利主张的清晰图样，否则诉讼中难以通过样品剖片弥补（指导案例218号允许在复制件或图样不足以识别时以一致性样品剖片确定，但那是补充而非替代）。
第二十四条 独创性声明应当指明布图设计具有独创性的设计区域、设计要点以及相应功能。
布图设计作为整体具有独创性的，应当在独创性声明中具体说明。
本条是关于独创性声明内容的规定（2026年新增）。
独创性声明的"三要素"：设计区域（版图中的具体坐标范围）、设计要点（该区域的元件配置与互联特征）、相应功能（该设计实现的功能）。
第二款允许整体独创性声明（组合作为整体具备独创性的情形，对应第六条第二款）。
独创性声明的法律意义在第三十四条得到落实——"独创性声明可以用于解释布图设计的独创性"。
行政处理中审查独创性声明：声明内容具体明确、与图样对应的，作为认定独创性的初步证据；
声明笼统模糊的，要求权利人补充说明，仍不能明确的，可认定其未完成独创性的初步举证。
第二十五条 国务院知识产权行政部门收到本条例第二十二条规定的布图设计登记申请文件之日为申请日。申请文件是邮寄的，以寄出的邮戳日为申请日。
本条是关于登记申请日确定的规定（2026年新增）。
申请日规则与专利法第二十八条一致（收到日主义＋邮寄邮戳日例外）。
申请日是保护期起算点（第十七条）和宽限期判断（第二十六条）的关键基准；
同日申请多个布图设计的，各自独立审查。
第二十六条 布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。
本条是关于商业利用后登记宽限期的规定。
与2001年版第十七条一致。
二年宽限期源自华盛顿条约第七条第二款（允许成员规定布图设计在商业实施后二年内申请登记），TRIPs第三十五条援引该条。
制度逻辑：芯片企业"先投放市场试水、再决定登记"的商业惯例需要宽容窗口，但无限制拖延将损害登记制度的确定性（登记簿无法反映真实权利状态）。
权利人应当注意：一旦首次商业利用（含境外投放）超过二年，登记申请将被拒绝（第二十七条驳回理由之一），专有权无从产生。
审查登记资格时，先确认首次商业利用时间与申请日之间的间隔；
超过二年仍获准登记的错误登记，可依第三十条撤销。
第二十七条 国务院知识产权行政部门对布图设计登记申请进行初步审查，认为申请登记的布图设计明显不符合本条例第三条第一款第一项、第二项或者第七条、第二十条、第二十三条、第二十四条的规定的，应当通知申请人，要求其在指定期限内陈述意见或者补正；申请人期满未答复的，其申请视为撤回。申请人陈述意见或者补正后，国务院知识产权行政部门仍然认为不符合本条例规定的，应当予以驳回。
本条是关于登记申请初步审查程序的规定。
本条由2001年版第十八条（简单的"初步审查未发现驳回理由即登记"）细化而来：明确初步审查的对象范围（客体定义第三条、保护范围排除第七条、真实性第二十条、图样要求第二十三条、独创性声明第二十四条）——这些均为"明显不符合"即可通知陈述意见或补正的实体性瑕疵，采取"通知—陈述补正—视为撤回/驳回"的阶梯；
未发现驳回理由的进入登记（第二十八条）。
审查深度限于"明显不符合"的程度，不做新颖性检索，维持登记程序的低成本与快速性（初步审查制而非实质审查制）。
登记审查标准与诉讼中独创性认定的关系：初步审查通过不构成独创性的行政确认，诉讼或行政处理中仍须依第六条和指导案例218号的规则独立判断独创性。
第二十八条 布图设计登记申请经初步审查，未发现驳回理由的，由国务院知识产权行政部门予以登记，发给登记证明文件，并予以公告。
本条是关于登记发证与公告的规定。
与2001年版第十八条对应（原条文即"未发现驳回理由的予以登记、发证、公告"）。
登记公告是登记簿公开的程序节点（第五十条公众查阅权自公告后产生），登记证明文件是专有权存在的初步证明（与软件著作权登记证明的功能类似，但在布图设计领域登记是权利产生要件，证明力更强）。
第二十九条 布图设计登记申请人对国务院知识产权行政部门驳回其登记申请的决定不服的，可以自收到通知之日起3个月内，向国务院知识产权行政部门请求复审。布图设计复审后，作出决定，并通知布图设计登记申请人。布图设计登记申请人对国务院知识产权行政部门的复审决定仍不服的，可以依法向人民法院起诉。
本条是关于登记驳回复审和司法救济的规定。
与2001年版第十九条相比，删去"可以自收到通知之日起3个月内向人民法院起诉"的起诉期限限定（改为"可以依法向人民法院起诉"），与2014年修正后的《行政诉讼法》（主席令第七十一号，2017年）第四十六条（六个月起诉期限）衔接——原"三个月"表述与行政诉讼法的一般期限冲突，2026年修订予以清理。
复审程序参照专利复审委员会的复审模式，但设在国务院知识产权行政部门内部。
第三十条 布图设计获准登记后，国务院知识产权行政部门发现该登记不符合本条例规定的，应当予以撤销，通知布图设计权利人，并予以登记和公告。
任何人发现该登记不符合本条例规定的，可以请求国务院知识产权行政部门撤销布图设计登记。国务院知识产权行政部门对撤销布图设计登记的请求应当及时审查和作出决定，并通知请求人和布图设计权利人。撤销布图设计登记的决定，由国务院知识产权行政部门登记和公告。
前两款所称不符合本条例规定，是指不符合本条例第三条第一款第一项、第二项或者第四条、第六条、第七条、第十七条、第二十条、第二十三条、第二十四条、第二十六条的规定。
布图设计权利人和请求人对国务院知识产权行政部门的审查决定不服的，可以依法向人民法院起诉。
本条是关于布图设计登记撤销程序的规定。
本条由2001年版第二十条的重大扩展而来：原条文仅规定登记机关自行发现后撤销（且仅权利人可诉），2026年修订增加"任何人可以请求撤销"的第三方启动机制，并明确撤销理由的完整清单（客体定义、主体资格第四条、独创性第六条、保护范围排除第七条、保护期第十七条、真实性第二十条、图样要求第二十三条、独创性声明第二十四条、二年宽限期第二十六条），同时赋予请求人与权利人相同的诉权。
增设第三方撤销请求的动因：登记的初步审查不进行实质审查，虚假登记、无独创性登记可能长期存续并干扰市场，利害关系人（被诉侵权人、竞争对手）需要主动清除不当登记的通道——这与专利法第四十五条（任何单位或个人可请求宣告专利权无效）的无效程序功能相似，但布图设计登记撤销在程序强度上更轻（无专门复审机构，由登记机关审查决定）。
侵权纠纷处理中，被请求人以"登记应被撤销"抗辩的，可引导其向国家知识产权局提出撤销请求，行政处理程序可参照《集成电路布图设计行政执法办法》中止审理；
撤销决定作出后专有权视为自始不存在（第三十一条），已进行的处理与诉讼失去权利基础。
第三十一条 布图设计登记被撤销的，该布图设计专有权视为自始即不存在。
本条是关于撤销登记溯及力的规定（2026年新增）。
"视为自始即不存在"明确撤销的溯及力，与专利法第四十七条第一款（宣告无效的专利权视为自始即不存在）一致。
已执行的侵权处理决定、已生效判决如何处理，可参照专利法第四十七条第二、三款的规则（对宣告前已执行的处理决定、判决不具有追溯力，但显失公平的应当返还）把握。
第三十二条 国务院知识产权行政部门的工作人员及有关人员对布图设计登记中未公开的内容负有保密责任。
本条是关于登记机关保密义务的规定。
与2001年版第二十一条相比，保密义务主体由"工作人员"扩展为"工作人员及有关人员"（含外聘专家、协助人员等），与第五条专利代理机构保密义务、第四十八条罚则共同构成布图设计登记保密体系。
保密的客体是"未公开的内容"——布图设计登记不公开设计内容（指导案例218号），复制件或图样的电子版本原则上不得查阅复制（第五十条），保密义务贯穿登记全流程。
第三十三条 当事人因不可抗拒的事由延误本条例规定的期限或者国务院知识产权行政部门指定的期限，导致其权利丧失的，自障碍消除之日起2个月内且自期限届满之日起2年内，可以向国务院知识产权行政部门说明理由并附具有关证明文件，请求恢复其权利。
除前款规定的情形外，当事人因其他正当理由延误本条例规定的期限或者国务院知识产权行政部门指定的期限，导致其权利丧失的，可以自收到国务院知识产权行政部门的通知之日起2个月内向国务院知识产权行政部门说明理由，请求恢复其权利；但是，延误复审请求期限的，可以自复审请求期限届满之日起2个月内向国务院知识产权行政部门请求恢复其权利。
当事人请求延长国务院知识产权行政部门指定的期限的，应当在期限届满前，向国务院知识产权行政部门说明理由并办理有关手续。
本条第一款和第二款的规定不适用本条例第十七条、第二十六条规定的期限。
本条是关于期限延误权利恢复和期限延长的规定（2026年新增）。
权利恢复程序是2026年修订"完善申请、审查程序"的重要增量，与专利法实施细则的权利恢复规则（细则第六条：不可抗力二年、其他正当理由二个月）结构一致，分两个层次：不可抗拒事由（不可抗力）致权利丧失的，自障碍消除之日起二个月内且自期限届满之日起二年内请求恢复；
其他正当理由致权利丧失的，自收到通知之日起二个月内请求恢复（延误复审请求期限的，自复审期限届满之日起二个月内）。
第三款允许在期限届满前申请延长指定期限。
第四款的排除清单值得注意：保护期（第十七条）与二年登记宽限期（第二十六条）属于实体法上的除斥期间性质，不适用恢复——登记宽限期届满即丧失登记资格，不能以"疏忽"为由恢复，这保证了登记制度的确定性。
权利人因错过宽限期丧失登记的，提示其审查是否符合第二十六条但书（不可抗拒事由），但依第四款宽限期本身不适用恢复程序；
对因不可抗力延误的，要求提供不可抗力证明文件（灾害证明、突发疾病证明等）。
第三十四条 受保护的布图设计以登记的布图设计的复制件或者图样所显示的为准，独创性声明可以用于解释布图设计的独创性。
本条是关于布图设计保护范围界定标准的规定（2026年新增）。
本条是2026年修订"明确权利范围界定标准"的核心条款，将指导案例218号的裁判规则上升为行政法规：保护范围以登记时提交的复制件或图样显示的内容为准（登记文件是保护范围的"宪法性文件"）；
独创性声明用于解释独创性（与第二十二条、第二十四条的声明制度闭环）。
条文未言明的部分由司法实践补充：对于无法从复制件或图样识别的布图设计内容，可以依据与复制件或图样具有一致性的样品（剖片）确定（指导案例218号裁判要点二）——样品剖片是技术手段上的补充确定方式，不能脱离与登记文件的一致性前提。
行政处理中确定保护范围：先以登记复制件或图样为准，必要时委托鉴定机构对芯片样品剖片提取三维配置信息与登记图样比对；
比对中注意将功能性、常规性部分排除在独创性主张之外。
第三十五条 布图设计权利人可以将其专有权转让或者许可他人使用其布图设计。
中国自然人、法人或者非法人组织向外国人、外国企业或者外国其他组织转让布图设计专有权的，应当依照有关法律、行政法规和国家有关规定办理手续。
转让布图设计专有权的，当事人应当订立书面合同，并向国务院知识产权行政部门登记，由国务院知识产权行政部门予以公告。布图设计专有权的转让自登记之日起生效。
许可他人使用其布图设计的，当事人应当订立书面合同，并自合同生效之日起3个月内向国务院知识产权行政部门备案。
以布图设计专有权出质的，由出质人和质权人共同向国务院知识产权行政部门办理出质登记，由国务院知识产权行政部门予以公告。
本条是关于布图设计专有权转让、许可和出质的规定。
本条由2001年版第二十二条扩展而来，新增三项内容：一是涉外转让的合规手续要求（第二款，参照《技术进出口管理条例》及国家有关规定，与计算机软件保护条例第二十二条的规制方向一致，2026年芯片产业涉外转让场景下尤具现实意义）；
二是许可合同备案义务（第三款，合同生效之日起三个月内备案——备案不影响许可合同效力，但具有公示和证据功能，与商标使用许可备案、专利实施许可备案的制度功能一致）；
三是出质登记（第四款，专有权出质须双方共同办理出质登记并公告，出质登记是质权设立的公示要件，与《民法典》第四百四十四条知识产权质权设立规则衔接）。
转让登记生效制（第三款"转让自登记之日起生效"）与2001年版一致，是登记产生制的逻辑延伸——专有权本身经登记产生，其转让亦经登记生效。
处理转让纠纷时注意"登记生效"规则：未登记的转让合同仅在当事人间有效，不能对抗第三人，受让人不能以合同主张取得专有权；
许可备案的缺失不影响许可效力，但影响善意第三人认定与侵权诉讼中的举证。
涉外转让未办手续的，按有关法律法规处理。
第三十六条 布图设计专有权的共有人对权利的行使有约定的，从其约定。没有约定的，共有人可以单独使用或者以普通许可方式许可他人使用该布图设计；许可他人使用该布图设计的，收取的使用费应当在共有人之间分配。
除前款规定的情形外，行使共有的布图设计专有权应当取得全体共有人的同意。
本条是关于共有布图设计专有权行使规则的规定（2026年新增）。
2026年修订"规范共有人权利行使"的落点条款，与《民法典》第三百零一条（共有物的处分与重大修缮需三分之二以上按份共有人或全体共同共有人同意）、专利法第十五条（共有专利权的行使：单独实施或普通许可无需全体同意，收益分配；
其余须全体同意）的结构一致。
规则的要点：约定优先；
无约定时"单独使用＋普通许可"为自由行使范围（许可费在共有人间分配）；
转让、独占许可、排他许可、出质等处分行为须全体共有人同意。
这一安排平衡了共有权利的利用效率（防止个别共有人滥用否决权）与处分安全（重大处分须一致）。
共有权利人单独维权的边界：以"单独使用"为限的制造、销售行为无须全体同意；
提起侵权诉讼或请求行政处理，实践中倾向于要求全体共有人共同主张或取得授权（涉及处分性行使），办案中应审查共有状态与授权文件。
第三十七条 下列行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付使用费：
（一）为个人目的或者仅为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的；
（二）在依据前项评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计的；
（三）对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用的。
本条是关于布图设计合理使用（法定豁免）的规定。
本条与2001年版第二十三条完全一致，三项豁免各有渊源：第
（一）项非商业目的复制（个人目的或评价、分析、研究、教学——与著作权法第二十四条合理使用的非商业性逻辑一致，但"评价、分析"并列突出了布图设计领域的反向工程语境）；
第
（二）项是布图设计保护制度最独特的制度——"在评价、分析受保护布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计的"，即合法反向工程条款，源于华盛顿条约第六条第二款第
（二）项：允许为分析评价目的复制，并允许在分析基础上创作出独创性的新布图设计——这是芯片行业"兼容芯片"研发的合法性基础（如电源管理芯片的引脚兼容设计）；
第
（三）项独立创作抗辩（自己独立创作出与他人相同的布图设计，可复制和商业利用）——布图设计保护不采专利式的绝对排他，独立创作相同设计不侵权（与著作权"独立创作不侵权"相同，与专利"独立开发仍侵权"相反）。
反向工程条款的边界在司法实践中被反复校准：第
（二）项的"创作出具有独创性的布图设计"要求新设计在整体或独创性部分上与原设计可区分——完全复制（连冗余结构、标志性缺陷都相同）不属于"创作出具有独创性的布图设计"。
人民法院案例库收录的上海某科技有限公司诉南京某科技有限公司案（pt4115芯片案）：被告通过反向剖析复制原告具有独创性的布图设计并商业销售，技术鉴定确认两芯片布图设计及关键技术基本相同，法院认定构成侵权，判赔二十三万余元——该案与第
（二）项的界限正在于：反向剖析的终点是"复制"而非"创作出独创性设计"。
办案中区分"合法反向工程"与"抄袭复制"的关键证据：被诉芯片版图中是否存在与原设计一致的冗余结构、非功能性标志（器件排列的随机性特征、作者标记），存在大量一致冗余的，反向工程抗辩不成立；
被诉方应提供其独立设计流程（设计文档、版本记录、流片记录）或反向分析后二次创作的设计记录。
第三十八条 受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品，由布图设计权利人或者经其许可投放市场后，他人再次商业利用的，可以不经布图设计权利人许可，并不向其支付使用费。
本条是关于商业利用权用尽（首次销售原则）的规定。
与2001年版第二十四条一致（仅"报酬"改"使用费"，与第四十二条、第四十七条术语统一）。
权利用尽规则对应TRIPs第三十六条"合法投放市场后的后续行为"处理：经权利人许可投放市场的芯片，其后续转售、再进口、二次销售不再受商业利用权控制——芯片作为商品流通的必然要求（经销商分销、二手市场、系统集成商的多次流转）。
用尽的对象涵盖布图设计、含布图设计的集成电路、含该集成电路的物品三个层次。
注意用尽的限于"商业利用权"，复制权不因首次销售而用尽（第三人拆解芯片反向复制版图仍受复制权控制）。
进口环节的定性：平行进口正品芯片（权利人海外合法投放后进口国内销售）落入权利用尽范围，不构成商业利用侵权；
进口侵权芯片（未经许可复制的）不适用用尽，仍构成商业利用侵权。
第三十九条 在国家出现紧急状态或者非常情况时，或者为了公共利益的目的，或者经人民法院、反垄断执法机构依法认定布图设计权利人有垄断行为而需要给予补救时，国务院知识产权行政部门可以给予使用其布图设计的非自愿许可。
本条是关于非自愿许可（强制许可）的规定。
与2001年版第二十五条相比，第三项条件由"经人民法院、不正当竞争行为监督检查部门依法认定布图设计权利人有不正当竞争行为而需要给予补救时"改为"经人民法院、反垄断执法机构依法认定布图设计权利人有垄断行为而需要给予补救时"——从"不正当竞争"切换到"垄断行为"，与第九条第二款的反垄断衔接一致，也与《反垄断法》第六十八条（滥用知识产权排除限制竞争）和TRIPs第三十七条第二款（非自愿许可的竞争救济）对齐。
非自愿许可的三个触发条件：紧急状态或非常情况、公共利益、反垄断补救。
其与专利强制许可（专利法第五十四条等）的制度结构相似，但适用门槛明确限定为"为公共目的非商业性使用"或"反垄断补救"（第四十条第二款），较专利强制许可范围更窄。
非自愿许可的决定权专属于国务院知识产权行政部门，地方无权作出；
实践中此类许可极少启动（布图设计领域的公共利益强制许可尚无先例），其制度价值更多在于威慑与谈判地位平衡。
第四十条 国务院知识产权行政部门作出给予使用布图设计非自愿许可的决定，应当及时通知布图设计权利人。
给予使用布图设计非自愿许可的决定，应当根据非自愿许可的理由，规定使用的范围和时间，其范围应当限于为公共目的非商业性使用，或者限于经人民法院、反垄断执法机构依法认定布图设计权利人有垄断行为而需要给予的补救。
非自愿许可的理由消除并不再发生时，国务院知识产权行政部门应当根据布图设计权利人的请求，经审查后作出终止使用布图设计非自愿许可的决定。
本条是关于非自愿许可决定内容和终止的规定。
与2001年版第二十六条一致（"不正当竞争行为监督检查部门"改为"反垄断执法机构"）。
决定应载明范围与时间，范围限于公共目的非商业性使用或反垄断补救；
理由消除后依权利人请求终止——"目的限定＋可逆性"设计防止非自愿许可的滥用。
第四十一条 取得使用布图设计非自愿许可的自然人、法人或者非法人组织不享有独占的使用权，并且无权允许他人使用。
本条是关于非自愿许可性质（非独占、不可转让）的规定。
与2001年版第二十七条一致（主体扩展非法人组织）。
非自愿许可的被许可人不享有独占权，也无权再许可——与专利强制许可（专利法第五十七条：取得实施强制许可的单位或者个人不享有独占的实施权，并且无权允许他人实施）完全一致。
第四十二条 取得使用布图设计非自愿许可的自然人、法人或者非法人组织应当向布图设计权利人支付合理的使用费，其数额由双方协商；双方不能达成协议的，由国务院知识产权行政部门作出行政裁决。
本条是关于非自愿许可使用费的规定。
与2001年版第二十八条一致（"报酬"改"使用费"、主体扩展）。
使用费协商优先、行政裁决兜底——裁决标准参照专利强制许可使用费裁决的实践（考虑研发成本、市场价值、许可惯例等）。
对裁决不服的依第四十三条起诉。
第四十三条 布图设计权利人对国务院知识产权行政部门关于使用布图设计非自愿许可的决定不服的，布图设计权利人和取得非自愿许可的自然人、法人或者非法人组织对国务院知识产权行政部门关于布图设计非自愿许可使用费的行政裁决不服的，可以依法向人民法院起诉。
本条是关于非自愿许可决定和裁决司法救济的规定。
与2001年版第二十九条一致，删去"3个月"起诉期限（与2014年行政诉讼法衔接）。
非自愿许可决定与使用费裁决均属行政行为，可诉。
第四十四条 除本条例另有规定的外，未经布图设计权利人许可，有下列行为之一的，行为人应当立即停止侵权行为，并承担赔偿责任：
（一）复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的；
（二）为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的。
本条是关于布图设计侵权行为构成和民事责任的规定。
与2001年版第三十条第一款一致，两款行为与第十一条专有权内容一一对应（复制、商业利用）。
与原条文相比，2026年修订将赔偿数额计算独立为第四十六条，本条专注行为构成——"应当立即停止侵权行为，并承担赔偿责任"的表述保留了原条文的强制性（"必须"改为"应当"，法律语言规范化）。
行为的构成要件：未经许可＋复制（全部或任何独创性部分）或商业利用（进口、销售、其他提供）。
"除本条例另有规定的外"为第三十七条（合理使用）、第三十八条（权利用尽）、第四十七条（善意）等豁免条款预留入口。
复制行为的对象是"受保护的布图设计"的全部或独创性部分；
商业利用的对象延及三个层次（布图设计本身、含布图设计的集成电路、含该集成电路的物品）。
指导案例218号中，被告复制、销售的芯片与原告登记的布图设计实质相同，被认定侵权并判赔五十万元（含连带责任）；
ATT7021AU案（某科技上海公司诉深圳某科技公司案）中，被控芯片与原设计两处独创点构成实质性相似，判赔三百二十万元。
两案的共性：以芯片剖片与登记图样比对确立"实质性相似"，以独创性声明划定受保护部分。
行政处理中认定侵权的证据链：登记证书（权利存在）→复制件或图样/样品剖片（保护范围）→被控芯片剖片比对（实质性相似）→独创性说明（受保护部分）→销售记录与账册（商业利用与获利）。
比对委托专业鉴定机构时，注意鉴定对象的同一性（登记图样版本与被控芯片批次）。
第四十五条 未经布图设计权利人许可，使用其布图设计，即侵犯其布图设计专有权，引起纠纷的，由当事人协商解决；不愿协商或者协商不成的，布图设计权利人或者利害关系人可以向人民法院起诉，也可以请求国务院知识产权行政部门处理。国务院知识产权行政部门处理时，认定侵权行为成立的，可以责令侵权人立即停止侵权行为，没收、销毁侵权产品或者物品。当事人不服的，可以依法向人民法院起诉；侵权人期满不起诉又不停止侵权行为的，国务院知识产权行政部门可以请求人民法院强制执行。应当事人的请求，国务院知识产权行政部门可以就侵犯布图设计专有权的赔偿数额进行调解；调解不成的，当事人可以依法向人民法院起诉。
本条是关于布图设计侵权纠纷解决途径和行政处理程序的规定。
与2001年版第三十一条相比，程序框架不变，两处修改：一是删除"自收到处理通知之日起15日内"和"依照《中华人民共和国行政诉讼法》""依照《中华人民共和国民事诉讼法》（主席令第十一号，2021年）"的限定表述，统一为"依法向人民法院起诉"（与2014年行政诉讼法、2021年民事诉讼法的期限和程序衔接，避免行政法规设定起诉期限）；
二是"没收、销毁侵权产品或者物品"保留，与专利法第六十五条（管理专利工作的部门处理专利侵权纠纷）的行政处理模式同构。
行政处理与司法诉讼双轨并行：权利人可选择请求国务院知识产权行政部门处理（责令停止、没收销毁）或向法院起诉（赔偿为主）；
行政处理程序中赔偿数额仅能调解不能裁决（行政裁决限于停止侵权的行为性处置，赔偿属民事争议）。
行政处理的操作要点：①受理条件——权利人（利害关系人）资格、请求书及证据、属于国家知识产权局管辖；
②处理程序——依《集成电路布图设计行政执法办法》（国家知识产权局制定）开展调查取证、口头审理、作出处理决定；
③处理决定的内容——认定侵权成立的责令停止侵权并没收销毁侵权产品，不涉及赔偿数额的裁定（赔偿以调解方式处理，调解不成告知起诉）；
④强制执行——侵权人期满不起诉又不停止的，由国家知识产权局申请人民法院强制执行。
地方知识产权部门收到布图设计侵权投诉的，告知其向国家知识产权局提出行政处理请求或向人民法院起诉，并可先行组织调解。
第四十六条 侵犯布图设计专有权的赔偿数额按照权利人因被侵权所受到的实际损失或者侵权人因侵权所获得的利益确定；权利人的损失或者侵权人获得的利益难以确定的，参照该布图设计许可使用费的倍数合理确定。对故意侵犯布图设计专有权，情节严重的，可以在按照上述方法确定数额的1倍以上5倍以下确定赔偿数额。
赔偿数额还应当包括权利人为制止侵权行为所支付的合理开支。
本条是关于侵权赔偿数额计算和惩罚性赔偿的规定。
本条是2026年修订"加大侵权赔偿力度"的核心条款。
2001年版第三十条第二款仅规定"赔偿数额为侵权人所获得的利益或者被侵权人所受到的损失，包括被侵权人为制止侵权行为所支付的合理开支"；
2026年修订全面升级为与专利法第七十一条、著作权法第五十四条、商标法第六十三条同构的赔偿体系：①实际损失或侵权获利（择一）；
②难以确定时参照许可使用费倍数合理确定；
③故意侵权且情节严重的一至五倍惩罚性赔偿（新增）；
④合理开支单列（原并入赔偿数额，现独立一款）。
惩罚性赔偿的引入使布图设计领域与专利、商标、著作权四大知识产权领域全部完成惩罚性赔偿制度覆盖。
适用要件与专利法第七十一条一致："故意＋情节严重"，实务参照《最高人民法院关于审理侵害知识产权民事案件适用惩罚性赔偿的解释》（法释〔2021〕4号，2021年）把握——故意包括明知或应知侵权仍实施；
情节严重包括以侵权为业、重复侵权、侵权规模大、危害后果严重、举证妨碍等。
行政调解中确定赔偿额可参照本条标准引导当事人协商；
行政处理决定虽不就赔偿作出裁决，但查明的侵权获利事实（账册、销售记录）可为权利人另行诉讼的赔偿请求提供证据基础；
惩罚性赔偿主张的证据准备重在固定"故意"与"情节严重"（侵权警告后的继续行为、重复侵权的在先记录、隐匿账册等）。
第四十七条 在获得含有受保护的布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品时，不知道也没有合理理由应当知道其中含有非法复制的布图设计，而将其投入商业利用的，不视为侵权。
前款行为人得到其中含有非法复制的布图设计的明确通知后，可以继续将现有的存货或者此前的订货投入商业利用，但应当向布图设计权利人支付合理的使用费。
本条是关于善意商业利用者责任豁免的规定。
与2001年版第三十三条完全一致（仅"报酬"改"使用费"），对应TRIPs第三十七条第一款：对布图设计、含布图设计的集成电路或含该集成电路的物品不知情也无合理理由应当知情的商业利用者，不视为侵权；
收到明确通知后，可继续处理现有存货或此前订货但须支付合理使用费。
制度逻辑与计算机软件保护条例第三十条（善意软件持有人）异曲同工但后果更温和：软件条例善意持有人须停止使用销毁（重大损失可付费继续），布图设计条例善意利用者无须停止——因为芯片已嵌入产品，强制召回拆除的代价远超软件卸载，且芯片技术特征难以通过外观识别。
主体限定于"投入商业利用"者（组装厂、分销商、终端厂商），不包括复制者——复制者无善意豁免。
人民法院案例库收录的南京某公司诉深圳某公司案即善意条款的典型适用：被告抗辩被诉芯片具有合法来源，法院查明被诉芯片与案外人芯片版图相似度达96.91%（处于行业鉴定误差范围内），结合交易凭证、行业规则认定被告系在不知情且无合理理由应知的情况下合法取得并商业利用，不构成侵权。
该案提示：芯片同源性判断须结合鉴定误差、交易链条完整性与行业常识，不能仅凭相似度未达百分之百或型号标注差异否定合法来源。
处理流通环节芯片侵权案件：先查商业利用者的主观状态（进货渠道、价格合理性、供应商资质、有无质检记录）；
善意利用者收到权利人通知后仍继续商业利用又不支付使用费的，转为明知侵权继续实施，应承担赔偿责任；
办案中应制作并送达"侵权通知"（告知侵权事实与法律后果），固定通知送达时间点。
第四十八条 专利代理机构泄露被代理人布图设计中未公开的内容的，依照《专利代理条例》第二十五条规定给予处罚。
国务院知识产权行政部门的工作人员及有关人员泄露布图设计登记中未公开的内容的，依法给予处分；涉及泄露国家秘密、侵犯商业秘密的，依照有关法律、行政法规的规定承担法律责任。
本条是关于泄密行为的法律责任的规定（2026年新增）。
本条与第五条（代理机构保密义务）、第三十二条（登记机关保密义务）构成布图设计保密责任体系：代理机构泄密转致《专利代理条例》第二十五条处罚（警告、罚款、吊销专利代理机构执业许可证或专利代理师资格证）；
登记机关工作人员及有关人员泄密的依法处分，涉及国家秘密、商业秘密的分别依《保守国家秘密法》（主席令第二十号，2024年）《反不正当竞争法》（商业秘密保护条款）承担法律责任。
布图设计登记不公开设计内容（指导案例218号），保密义务的违反直接威胁权利人核心资产，罚则的明确是2026年修订完善制度闭环的体现。
办案中发现代理机构、登记机关人员泄密的，分别依转致条款和处分规定处理；
权利人以泄密导致其布图设计被他人复制的，可主张泄密方承担民事赔偿责任。
第四十九条 从事布图设计专有权管理工作的国家机关工作人员玩忽职守、滥用职权、徇私舞弊的，依法给予处分；构成犯罪的，依法追究刑事责任。
本条是关于管理机关工作人员渎职责任的规定。
与2001年版第三十四条相比，将"国务院知识产权行政部门的工作人员"扩展为"从事布图设计专有权管理工作的国家机关工作人员"（涵盖协助管理的其他机关人员），"行政处分"统一为"处分"，表述与现行公务员法衔接。
玩忽职守、滥用职权、徇私舞弊行为构成犯罪的，依《刑法》（主席令第十八号，2020年）第三百九十七条（滥用职权罪、玩忽职守罪）等追究刑责。
第五十条 布图设计登记公告后，公众可以请求查阅该布图设计登记簿或者请求国务院知识产权行政部门提供该登记簿的副本。公众也可以请求查阅该布图设计的复制件或者图样的纸件。
除诉讼或者行政处理程序等国家机关依法履职需要外，任何人不得查阅或者复制布图设计的复制件或者图样的电子版本。
本条是关于登记信息查阅与保密平衡的规定（2026年新增）。
本条将2001年版及实施细则中的查阅规则上升为条例条文：登记簿（含登记事项）与复制件或图样纸件对公众开放查阅，但电子版本（含布图设计全部信息）除国家机关依法履职外不得查阅复制——"纸件公开、电子件保密"的差异设计，是布图设计"登记不公开设计内容"制度（指导案例218号）在信息公开层面的落实：公众可了解"谁就什么登记了权利"，但设计细节（尤其是已商业利用产品的保密信息）不对外披露。
行政处理、诉讼中调取电子版本材料的，限定用途并履行保密义务；
对外提供材料时注意脱敏处理。
第五十一条 申请布图设计登记和办理其他手续，应当按照规定缴纳费用。
本条是关于登记缴费的规定。
与2001年版第三十五条相比，删去"缴费标准由国务院物价主管部门、国务院知识产权行政部门制定，并由国务院知识产权行政部门公告"的授权表述（收费标准的制定程序由价格法律法规统一规范），主体规则不变。
布图设计登记费、登记证书费、公告费等收费标准由国家知识产权局按国家价格管理规定公布执行（目前登记费为二百元等）。
第五十二条 本条例规定的各种期限开始的当日不计算在期限内，自下一日开始计算。期限以年或者月计算的，以其最后一月的相应日为期限届满日；该月无相应日的，以该月最后一日为期限届满日；期限届满日是法定休假日的，以休假日后的第一个工作日为期限届满日。
本条是关于期限计算规则的规定（2026年新增）。
期限计算的统一规则（起算日不计入、届满日顺延、节假日顺延）与《民法典》第二百条至第二百零三条、《专利法实施细则》（国务院令第769号，2023年）的期限计算规则一致，2026年修订将其明文化，消除此前实践中对期限起算的争议。
第五十三条 任何国家或者地区在集成电路布图设计保护方面对中华人民共和国采取歧视性的禁止、限制或者其他类似措施的，中华人民共和国可以根据实际情况对有关国家或者地区采取相应的措施。
本条是关于对等反制措施的规定（2026年新增）。
本条是2026年修订最具国际政治经济色彩的条款。
背景是近年部分国家对我国集成电路产业的歧视性出口管制与投资限制（芯片禁令、设备禁运等），我国相继出台《出口管制法》（2020年）、《反外国制裁法》（2021年）构建反制法律工具箱，知识产权专门立法中也出现授权行政机关在遭受歧视性对待时采取对等措施的立法趋势。
本条授予国务院在布图设计保护领域实施对等反制的法律依据：外国对中国布图设计权利人采取歧视性禁止、限制措施的，中国可对该国或地区采取相应措施（如限制其国民在中国享受布图设计保护待遇、对等限制登记与保护）。
条款采用"可以"的授权性表述，为外交与产业政策保留灵活空间。
本条为政策授权条款，不直接适用于个案；
涉外布图设计权利保护待遇发生变化时，国家知识产权局将通过公告等方式明确实施口径，办案人员应及时关注。
第五十四条 本条例自2026年10月15日起施行。
本条是关于条例施行日期的规定。
2001年版第三十六条规定的施行日期为2001年10月1日；
2026年修订版自2026年10月15日施行。
2001年10月1日至2026年10月14日期间的行为与程序适用2001年版（其间的登记、行政处理与诉讼以行为时法为准）；
2026年10月15日起的登记申请与纠纷处理适用修订版。
附录一 2001年版与2026年修订版条文对照表
| 2001年版（36条） | 2026年修订版（54条） | 主要变化 |
|---|---|---|
| 第一条 | 第一条 | 文字微调 |
| 第二条（定义） | 第三条 | 主体改"非法人组织"；新增第二款集成光子、量子保护 |
| 第三条（主体保护） | 第四条 | 主体表述扩展 |
| — | 第二条（战略部署） | 新增 |
| — | 第五条（代理机构） | 新增 |
| 第四条（独创性） | 第六条 | 未变 |
| 第五条（不延及思想） | 第七条 | 未变 |
| 第六条（管理机关） | 第八条 | 加"全国" |
| — | 第九条（诚实信用与反垄断） | 新增 |
| — | 第十条（公共服务） | 新增 |
| 第七条（权利内容） | 第十一条 | 未变 |
| 第八条（登记产生） | 第十二条 | 未变 |
| 第九条（归属） | 第十三条 | 主体扩展 |
| 第十条（合作） | 第十四条 | 主体扩展 |
| 第十一条（委托） | 第十五条 | 未变 |
| — | 第十六条（职务奖酬） | 新增 |
| 第十二条（保护期） | 第十七条 | 未变 |
| 第十三条（继承转移） | 第十八条 | "进入公有领域"改"不再受保护" |
| 第十四条（登记机关） | 第十九条 | 未变 |
| — | 第二十条（真实申请） | 新增 |
| 第十五条（保密申请） | 第二十一条 | 未变 |
| 第十六条（申请材料） | 第二十二条 | 独创性声明列为必备项 |
| — | 第二十三条（图样要求） | 新增 |
| — | 第二十四条（独创性声明内容） | 新增 |
| — | 第二十五条（申请日） | 新增 |
| 第十七条（二年宽限） | 第二十六条 | 未变 |
| 第十八条（初步审查） | 第二十七条、第二十八条 | 审查程序细化 |
| 第十九条（复审） | 第二十九条 | 起诉期限表述更新 |
| 第二十条（撤销） | 第三十条、第三十一条 | 新增第三方撤销请求、撤销理由清单、溯及力 |
| 第二十一条（保密） | 第三十二条 | 主体扩展"及有关人员" |
| — | 第三十三条（权利恢复） | 新增 |
| — | 第三十四条（保护范围） | 新增 |
| 第二十二条（转让许可） | 第三十五条 | 新增涉外转让手续、许可备案、出质登记 |
| — | 第三十六条（共有行使） | 新增 |
| 第二十三条（合理使用） | 第三十七条 | 未变 |
| 第二十四条（权利用尽） | 第三十八条 | "报酬"改"使用费" |
| 第二十五条至第二十九条（非自愿许可） | 第三十九条至第四十三条 | "不正当竞争"改"垄断行为"；起诉期限表述更新 |
| 第三十条（侵权责任） | 第四十四条 | 赔偿计算移出 |
| 第三十一条（行政处理） | 第四十五条 | 起诉期限表述更新 |
| — | 第四十六条（赔偿与惩罚性赔偿） | 新增惩罚性赔偿、许可费倍数 |
| 第三十三条（善意侵权） | 第四十七条 | "报酬"改"使用费" |
| — | 第四十八条（泄密罚则） | 新增 |
| 第三十四条（渎职） | 第四十九条 | 主体扩展 |
| — | 第五十条（查阅规则） | 新增 |
| 第三十五条（费用） | 第五十一条 | 删去收费制定授权表述 |
| — | 第五十二条（期限计算） | 新增 |
| — | 第五十三条（对等反制） | 新增 |
| 第三十六条（施行日期） | 第五十四条 | 更新 |
附录二 2026年修订主要新增制度一览
一是总则层面：贯彻知识产权战略部署条款（第二条）、代理机构制度（第五条）、诚实信用与反垄断衔接（第九条）、公共服务条款（第十条）、保护范围扩展至集成光子、量子功能（第三条第二款）。
二是登记层面：登记申请真实性要求（第二十条）、独创性声明材料化及其内容要求（第二十二条、第二十四条）、复制件图样清晰性要求（第二十三条）、申请日规则（第二十五条）、审查程序细化（第二十七条）、第三方撤销请求机制与撤销理由清单（第三十条）、撤销溯及力（第三十一条）、权利恢复程序（第三十三条）。
三是行使层面：保护范围界定标准（第三十四条）、涉外转让手续与许可备案、出质登记（第三十五条）、共有权利行使规则（第三十六条）、职务奖酬（第十六条）。
四是责任层面：赔偿数额计算体系与惩罚性赔偿（第四十六条）、代理机构泄密罚则（第四十八条）。
五是附则层面：登记信息查阅规则（第五十条）、期限计算规则（第五十二条）、对等反制条款（第五十三条）。
后记
条例二十五年间的两次立法，恰是中国集成电路产业从跟跑到并跑的缩影。
2001年版以TRIPs和华盛顿条约为蓝本，为中国入世后的芯片设计业搭建起"登记产生、十年保护、反向工程例外、善意豁免"的基本框架——这套框架在当时显得超前（登记产生制、部分独创性保护、非自愿许可皆为彼时少见的制度设计），却在随后的产业实践中被证明稳健：登记量从每年数百件增长到数千件，指导案例218号、ATT7021AU案等一批判决将条例的独创性判断、保护范围确定规则逐步精细化。
2026年修订则带有鲜明的时代印记：惩罚性赔偿与专利商标著作权对齐，诚实信用与反垄断条款回应权利滥用与市场支配问题，光子量子扩展为下一代芯片留出制度空间，对等反制条款在科技博弈中亮明立场。
对执法者与法律实务工作者而言，理解这部条例的要领在于把握其"介于专利与著作权之间的第三种制度"的特殊性：登记是权利产生要件而非公开程序（指导案例218号的反复强调）、权利内容只有复制与商业利用两项却层层延伸至终端物品、十年保护期短于任何其他知识产权却契合芯片产品的商业生命周期、反向工程合法而纯复制非法。
理解了这些制度坐标，才能在芯片版图的方圆之间，准确划出保护与自由的边界。